Nanometrų lygio matavimo technologija apima: nanometrų lygio tikslumo dydžio ir poslinkio matavimą ir nanometro lygio paviršiaus topografijos matavimą. Yra dvi pagrindinės nanometrų matavimo technologijos plėtros kryptys.
Viena iš jų yra optinės interferometrijos technologija, kuri naudoja šviesos trikdžių pakraščius, kad pagerintų matavimo skiriamąją gebą. Matavimo metodai apima: dvigubo dažnio lazerinę interferometriją, optinę heterodino interferometriją, rentgeno interferometriją, standartinį FP įrankio matavimo metodą ir kt., Jie gali būti naudojami tiksliam ilgio ir poslinkio matavimui, taip pat gali būti naudojami paviršiaus mikro matavimui -topografija.
Antroji yra zondavimo mikroskopinio matavimo technologija (STM). Pagrindinis jo principas grindžiamas kvantinės mechanikos tuneliniu efektu. Jos principas yra naudoti labai aštrų zondą (ar panašų metodą) išmatuotam paviršiui nuskaityti (zondas ir Išmatuotas paviršius iš tikrųjų nesiliečia), o erdvinė mikroskopinė paviršiaus išvaizda matuojama nano pagalba trijų lygių trimačio poslinkio padėties valdymo sistema. Daugiausia naudojama mikroskopinei paviršiaus išvaizdai ir dydžiui matuoti.
Matavimo metodai, naudojant šį principą, apima: nuskaitymo tunelinį mikroskopą (STM), atominės jėgos mikroskopą (AFM) ir kt.